LG이노텍 등과 공동연구 … 머리카락 1/1000수준 개발

 
머리카락 굵기의 1/000 수준인 50나노선(線)을 대량 생산할 수 있는 기술이 국내 연구팀에 의해 개발됐다.

KAIST는 윤준보 교수(사진, 전기및전자공학과) 연구팀이 (주)LG이노텍, 나노종합기술원과 공동으로 첨단 과학 분야에서 핵심 소재로 쓰이는 나노선(線)을 필요한 길이만큼 대량 생산할 수 있는 기술을 개발했다고 22일 밝혔다.

나노선(線)은 폭이 최대 100나노미터 정도에 불과한 긴 선 모양의 구조체로 기존에 발견되지 않았던 다양한 열적, 전기적, 기계적 특성을 보이는 것으로 알려져 있으며 최근 반도체, 에너지, 생체소자, 광학소자 등 다양한 분야에 활용될 수 있는 첨단 소재로 각광 받고 있다.

하지만 기존 나노선(線)을 제조하는 화학적 합성법에서는 양성 속도가 매우 느려 대량 생산이 어렵고 원하는 길이만큼 제작하지 못하는 한계를 지녔다.

윤 교수팀은 기존의 화학적 합성법에서 벗어나 직경 20cm의 실리콘 웨이퍼 기판에 광식각 공정을 이용해 반도체 제조과정에서 널리 쓰이는 박막증착공정을 활용, 폭 50nm, 최대 길이 20cm의 나노선(線)을 완벽한 형태로 대량 제조하는데 성공했다.

윤 교수는 이번 연구로 "낮은 생산성, 긴 제조시간, 물질합성의 제약, 나노선 정렬 등과 같은 기존 기술의 문제점을 해결했다"며 앞으로 이를 활용한 고성능 가스 센서, LCD 형광판이나 투명 전극, 고성능의 반도체, 바이오 소자 등에 쓰일 수 있으며 수년 내에 상용화될 것이라 밝혔다.

▲ 윤교수팀이 상용화 기술 개발에 성공한 50나노 수준의 나노선 제조 과정

 

김준현 기자 jhkim@gamtantimes.com

 

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