한국세라믹기술원
금천구 디지털로10길 77 (가산동) 에 위치한 한국세라믹기술원은 세대 분전반에 관한 특허등록을 마쳤다. 본 발명은 티탄산바륨 나노입자의 제조방법에 관한 것으로, 특히 균일하고 입자의 과립응집이 없이 소결 첨가제가 코팅된 BaTiO3 분말을 얻을 수 있는 제조방법에 관한 것이다.
한국세라믹기술원
금천구 디지털로10길 77 (가산동) 에 위치한 한국세라믹기술원은 세대 분전반에 관한 특허등록을 마쳤다. 본 발명은 티탄산바륨 나노입자의 제조방법에 관한 것으로, 특히 균일하고 입자의 과립응집이 없이 소결 첨가제가 코팅된 BaTiO3 분말을 얻을 수 있는 제조방법에 관한 것이다.